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宝兴威

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产品的技术新颖性说明:

(1)结合自己的工艺特点,自主设计精密涂布机,涂布厚度可以做到1μm以下,涂布均匀性控制在5%以内,基本达到日本的技术水平。精密涂布机将纳米银涂布于柔性基板上,烘烤后形成纳米级厚的纳米银薄膜,纳米银线之间互相搭接,形成导电路径,而空隙处可见光完全透过,形成高透明导电膜。银具有最佳的导电率,以及柔韧性,所以涂布成的透明导电薄膜具有很低的方阻和耐弯折性,同时兼有极高的透过率。



(2)特殊的纳米银导电膜涂布液以及导电结构,可以完全代替ITOfilm,并兼容ITOfilm应用于触控屏的所有工艺,而日本的导电膜只适合激光蚀刻工艺。

 


(3)纳米银导电膜技术实现了低方阻,高透过率,方阻小于100Ω/□,透过率大于90%,而现有ITO薄膜一般做到150Ω/□,透过率88%左右;实现了柔性,弯折100000次,方阻变化率在10%以内,而现有ITO薄膜一般弯折几十次,导电膜就会断裂。


(4)相比于磁控溅镀发制作ITO透明导电膜,纳米银透明导电膜采用卷对卷涂布工艺,设备成本低,是磁控溅镀设备的三分之一,易大规模生产,效率较前者提高30%。